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Reflectómetros multisitio / in situ

Inline-monitoring-f30

F30

1. Mejora significativamente la productividad
2. Mejor relación calidad-precio

3. Rápido y preciso

4. Fácil de usar

5. Sistema llave en mano

La herramienta más poderosa disponible para monitorear la deposición de capas delgadas
Mida las tasas de deposición, el espesor de la película, las constantes ópticas (nyk) y la uniformidad de los semiconductores y las capas dieléctricas en tiempo real con el sistema de reflectancia espectral F30.

Ejemplo de capas
MBE y MOCVD: se pueden medir películas lisas, translúcidas o ligeramente absorbentes. Esto incluye prácticamente todos los materiales semiconductores, desde AIGaN hasta GaInAsP.

 

Reflectometría

F20

F20 :
Medición puntual >>

F40

F40 :
Adaptables al microscopio >>

F50

F50 :
automáticos de cartografía >>

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Más información sobre aplicaciones

- Amorfo y polisilicio

- dieléctrico - espesor duro

- Análisis de falla de IC

- ITO y otros TCO

- Equipamiento médico

- espesor del metal

- Microfluídica

- OLED

- Recubrimientos oftálmicos

- Recubrimientos de parileno

- Photoresist

- Silicio poroso

- Películas de tratamiento

- Índice de refracción & k

- Obleas y membranas de silicio

- Aplicaciones solares

- Laboratorios de enseñanza de semiconductores

- Rugosidad y acabado superficial

Perfectamente adaptado a la metrología en producción.

Usos múltiples

El F30 reúne varios instrumentos: es una herramienta de calibración previa a la deposición que permite ajustar el tratamiento antes de la deposición real, un monitor en tiempo real del proceso de deposición de película delgada, un sensor de fallas y un instrumento de evaluación posterior a la deposición. Estructura multicapa completa.

 

Medida de deposición
Para las capas en crecimiento, el F30 monitorea continuamente la reflectancia de la muestra en una o más longitudes de onda. Las propiedades ópticas de la capa depositada producen oscilaciones de interferencia únicas dependientes del tiempo en la señal de reflectividad. El análisis de "interfaz virtual" de estas oscilaciones facilita la determinación de la velocidad de deposición de la capa y las constantes ópticas con una precisión del 1%. Como las capas subyacentes se cuentan automáticamente, no se requiere conocimiento del depósito anterior.

La medición simultánea de la tasa de deposición en dos o más ubicaciones revela la uniformidad de la muestra. El F30 también proporciona un medio eficaz para detectar la rugosidad de la superficie asociada con las transiciones eutécticas utilizadas para la calibración de temperatura.

Medida de capas estáticas
Para capas estáticas (sin cambios), el F30 mide el espectro de reflectancia de la muestra, luego analiza estos datos con potentes rutinas de simulación para determinar el grosor de la capa y sus constantes ópticas. Cualquier capa en una pila de hasta cuatro capas se puede medir de esta manera.

Screenshot f30 video med-large

Un sistema que satisface sus necesidades, incluidas las aplicaciones de múltiples wafer

El F30 incluye todo lo necesario para mediciones in situ: espectrómetro, fuente de luz, cable de fibra óptica y lentes. Hay monturas de lentes especiales disponibles para aplicaciones de acceso restringido, como suele ser el caso en MOCVD. También está disponible una opción simple de corrección de múltiples obleas / oscilaciones: no se requieren piezas ni hardware de sincronización complicado.

Interfaz intuitiva de Windows TM

Después de una breve operación de configuración, la mayoría de las mediciones requieren solo unas pocas operaciones del mouse. Los usuarios novatos pueden ser entrenados en minutos. Los datos medidos y sus detalles se guardan y exportan fácilmente

VENTAJAS

- Mejora significativamente la productividad
- Mejor relación calidad-precio
- Rápido y preciso
- Fácil de usar
- Sistema llave en mano

Accesorios

Nist

NIST-traceable thickness standard

Vis-uv

F50 small spot option, VIS-UV

Especificaciones

Model Specifications 

Model Thickness Range* Wavelength Range
F30 15nm - 70µm 380-1050nm
F30-UV 3nm - 40µm 190-1100nm
F30-NIR 100nm - 250µm 950-1700nm
F30-EXR 15nm - 250µm 380-1700nm
F30-UVX 3nm - 250µm 190-1700nm
F30-XT 0.2µm - 450µm 1440-1690nm

*film stack dependent

Thickness Range*

F30 range

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Le responderemos dentro de las 24 horas.

 

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